一、mocvd烤盘炉简介mocvd真空烤盘炉、真空烤盘炉为 led 制造行业的一种新型的真空设备，与 mocvd
设备配套使用，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行 干式清洗（清洗气体：n2，hcl)。主要用于有效清除 mocvd 承受器（sic
涂层石 墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
二、mocvd烤盘炉用途
北京晶伏华控电子设备有限公司生产的烤盘炉、真空烤盘炉、mocvd烤盘炉、cvd烤盘炉主要应用于led行业mocvd石墨盘的真空烘烤工艺。
三、mocvd烤盘炉主要技术参数
1、外型形式：卧式单管
2、最高工作温度：1300℃
3、加热炉管有效口径：φ340mm
4、石英管有效口径：φ300mm
5、等温区长度：800mm
6、控温仪表：原装进口日本理化rkc fb400高精度控温仪
7、等温区精度：600℃--1300℃ ±1℃/800mm
8、单点温度稳定性：600℃--1300℃ ±1℃
9、升温斜变能力：最大可控升温速度：15℃/min
10、最大升温功率：34kw/管
11、保温功率：17kw/管
12、气路系统：每管氮气、氯化氢两路工艺气体 ,带混气罐
13、流量计：mfc 浮子流量计
14、气路管件：进口原装，长期使用不生锈
15、气路系统气密性：1×10-10 pa·m3/s
16、控制系统：rkc高精度控制器 plc 触摸屏方式，自动控制整个工艺流程
17、电源：三相五线380v、50hz
北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求专业定制各种真空炉、烤盘炉、真空烤盘炉、cvd烤盘炉、mocvd烤盘炉、扩散炉、退火炉、合金炉、交换炉、焊接炉、igbt焊接炉、氧化炉、气氛炉、升华炉、氢气炉、气氛炉、cvd炉及工业电炉专用炉体等各种工业、实验室用热处理设备。